SEM Dual Beam
Microscopio electrónico de barrido por haz de iones enfocado en plasma para preparación de muestras TEM que incluye caracterización 3D, corte transversal y micromecanizado.
• Ofrece capacidades incomparables para análisis 3D de gran volumen extremo, preparación de muestras sin Ga y micromaquinado preciso
• La caracterización 3D más rápida y de alta calidad a escala milimétrica con resolución de nanómetros
• Con un innovador láser de femtosegundo totalmente integrado, ofrece la tasa de eliminación de material más rápida con la más alta calidad de cara de corte
– Rango de corriente del haz de electrones: 0.8 pA a 100 nA
– Rango de voltaje de aceleración: 200 V – 30 kV
– Rango de energía de aterrizaje: 20* eV- 30 keV
